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  • 真空熱處理系列

  • 真空釬焊/擴(kuò)散焊系列

  • 真空燒結(jié)系列

  • 真空高溫高壓系列

  • HIP熱等靜壓系列

  • 不銹鋼管專用熱處理系列

  • 鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列

  • 真空氫化系列

  • 碳材料特種生產(chǎn)線設(shè)備

  • 連續(xù)生產(chǎn)線

  • 半導(dǎo)體晶體生長系列

    • 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）

    用途：

            主要用于晶體生長、化合反應(yīng)等工藝。


    優(yōu)勢和特點：

           工作溫度從常溫到2000℃，壓力達(dá)到10MPa。


           可根據(jù)客戶實際需求定制。