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  • 真空熱處理系列

  • 真空釬焊/擴散焊系列

  • 真空燒結系列

  • 真空高溫高壓系列

  • HIP熱等靜壓系列

  • 不銹鋼管專用熱處理系列

  • 鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列

  • 真空氫化系列

  • 碳材料特種生產(chǎn)線設備

  • 連續(xù)生產(chǎn)線

  • 半導體晶體生長系列

    • VHSF系列真空高溫燒結爐（碳化硅、氮化硅）

    用途：

           主要用于SiC陶瓷制品的反應燒結、無壓燒結、重結晶燒結、熱等靜壓燒結，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的燒結。

    優(yōu)勢與特點：

           最高 溫度可達到3000℃。

           新型加熱室結構，多溫區(qū)獨立控溫，溫度均勻性好，損耗功率小，更節(jié)能。

           進口紅外測溫儀，測溫準確，誤差小。

    可選項：

           爐體形式：立式，臥式

           加熱方式：電阻加熱；感應加熱

           冷卻方式：自然冷卻；氣體循環(huán)冷卻

           真空泵組：進口；國內(nèi)優(yōu)質品牌

           目前該設備已形成系列化產(chǎn)品，不在系列范圍內(nèi)的可根據(jù)客戶要求定制。